溶劑純化單元裝置
溶劑純化單元裝置
1、DMAC工藝純化單元裝置，用于去除DMAC、DMF中二甲胺、三甲胺、甲酸及所有(yǒu)金屬離子。
2、電(diàn)子級矽油工藝純化單元裝置，去除所有(yǒu)多(duō)屬離子及所有(yǒu)酸根離子，提高(gāo)矽油介電(diàn)常數(shù)。
3、氨酯級乙二醇工藝純化單元，脫除産品乙二醇的醛類所有(yǒu)雜質，提高(gāo)産品透光率。
4、高(gāo)純度四氫呋喃純化，去除THF中陰陽離子及微量水(shuǐ)。
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